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正文 第308章 对江成及光刻机的打压策略
国销售的话,那倒没有什么大问题,不会影响太大。



莫斯特道,“亚洲市场负责人梁永兵报告说,枫火半导体已经使用了魔都微的光刻机,目前的芯片良率达到了95以上,32n工艺。”



随后又道,“现在我们不确定的是,他们是否会用多重曝光和ffet技术,如果这两项技术他们掌握了,很快他们就可以进入28n以内的更高制程。”



戴拿忧心地道,“他们已经有了浸没式光刻机,一定能够深入更高制程的,这是毋庸置疑的,无非就是时间的长短而已。”



“所以,留给我们的时间不多了。”



“但,如果他们的光刻机真的规避了我们的专利,又该如何是好?”戴拿又问道。



duv光刻机的不少专利,还在保护期限内,大都是2003至2010年左右申请的。



发明专利保护期限是20年。



通过这些方式,很多技术,可以让华国等其他公司无法仿制,至少要过20年才可以研发。



这样形成巨大的科技代差。



但戴拿唯一担心的是,万一对方真的规避了,那该如何是好?



总不能一番大动作,却是灰溜溜地撤场吧。



那样太丢脸了。



莫斯特哈哈一笑,“我说戴拿总裁,等我们过去审查了,是与不是,还不是由我们认定么?”



“哈哈哈,这倒也是。”戴拿笑了起来。



运动员是他,裁判虽然不是自己,但是自己的老子啊!



“好的,莫斯特,那就祝你此行顺利。”戴拿定下了决心。



……



2016年4月10日。



阿斯麦耳公司诉讼团队一行动身前往魔都。



与此同时,佩西带着专利保护协会一行,起身前往华国的京都,商议专利保护等事宜。



这个消息,让华国的互联网上热闹了起来。



不少人都声援魔都微,表示支持国产光刻机。



江成虽然在家陪伴着于歆然,带着一天一变样的小娃儿,但这会儿也没有办法,启程前往京都。



就在这个时候,一份详细的江成的室友、朋友等重要关系的情报,送到了米国战略研究协会的办公桌上。



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