波长的光源。



“相对于g线和i线，krf需要新的光刻胶和抗反射涂层材料来适应krf光源的特性。



同时krf要求更高性能的光学系统和光掩膜材料。当时需要采用更先进的透镜和光学元件，以实现更高的数值孔径和分辨率。



此外，光掩膜材料也需要具有更低的散射和吸收特性。



krf还需要优化曝光过程，以提高成像质量。我们当时主要采用了双重曝光和离焦曝光技术来降低光刻误差。



让我想想，对了，我们当时在研发krf光源的时候还要对控制进行考虑，因为krf实现了更高的分辨率，所以需要更严格的制程控制要求。



需要对光刻胶涂覆厚度、曝光剂量、显影过程等参数进行更精确的控制，以保证光刻成像质量和产量。



这么多困难，我们照样克服了，最终krf光源代替了g线和i线，成为了今天的最先进的制程光源。



同样未来短波长的光源势必然会代替长波长的光源，这是技术进步的必然。



我们刚刚讨论的困难只是暂时的困难。”



asl、尼康和佳能只是暂缓了在arf上的投入，而不是停止了在arf技术路线上的投入。



后来asl实现弯道超车，也是因为他们选择了正确的技术路线，arf光源以水为介质，在光刻胶上面抹一层水。



水的介质折射率是144，193纳米÷144≈134纳米，arf光源的波长进一步减少了。



asl能够干掉尼康和佳能，垄断光刻机领域，他们在技术路线的两个关键节点都做出了正确的选择。



应该稳健的时候他们比尼康稳健，从而在光刻机市场站稳了脚跟。



应该激进的时候他们比尼康激进，从而占据了高端市场，把高额利润全部吃掉了，后续一直保持住了技术领先。



arf技术路线突破之后，arf的波长是193n，他最多能够制造65n的芯片。



如果要制造40n制程以下的芯片，需要找到160n以下的光源。



尼康和佳能等企业选择的是157n的f2激光，而asl找到了光源做介质直接一步到位了。



当然没有加一层水那么简单。



“我关于arf技术路线一直认为是有办法解决的。



首先是需要专门针对arf光源设计对应的光刻胶，其次是研发抗反射涂层，然后是改进光刻机的光学系统，找蔡司定制更先进的透镜。



来实现更高的数值孔径和分辨率。



同时在曝光过程中进行优化。我专门针对arf光源设计了一套分辨率增强技术。



包括辅助特征、离轴照明、双曝光技术等，用以改善图案传输质量和提高分辨率。”林本坚很兴奋，难得见到这么懂arf技术的同行。



其他懂这玩意的都签了保密协议，林本坚和他们聊的很不尽兴。



华国差的不仅仅是光刻机，差的是整个高端制造业，即便能造出光刻机，光学镜头也能卡你脖子。



不过蔡司是德意志企业而且没上市，阿美利肯的长臂管辖管不到蔡司。



周新听完之后感慨对方不愧是大师级人物，还没有加入台积电已经有完整的计划了。



同样一件事，有的人是纸上谈兵，有的人是决胜千里之外。



华国价值观以结果为导向，周新知道林本坚未来的成就，更别说林本坚说的这些都是绝对的干货。



又和林本坚探讨了一番arf技术路线的未来后，周新问：“林伯，我打算成立一家光刻机公司，我需要真正懂行的人来帮我。



你有没有意愿来帮我做事，我给你的职位是研发主观。



首批研发资金十亿美元，我给你百分之二十的股份，但是你加入之后需要签竞业协议，同时我们的光刻机公司会放在华国。”



林本坚听完前半句话想马上答应下来，十亿美元的