用导致磨盘的热变形，基片的平面度和平行度就无法保证。



而这种不能被允许发生的热变形误差不是几毫米或几微米，而是几纳米。



在他之前，各国无法制造出低纳米级抛光机的主要原因也就在此。用什么材料和工艺才能合成这种热膨胀率低、耐磨度高、研磨面超精密的磨盘，才是关键。



尽管在此之前，顶级的超精密抛光技术还只能做到三十纳米。



但这种技术，在他制造纳米级光刻机之前，一直都是被小岛国、米国、日耳曼国这三个国家把控的。



他们据此掌控着超精密抛光工艺的核心技术，也牢牢把握了全球市场的主动权。



而事实上，把握住这项技术，也就在很大程度上掌控了电子制造业的发展。



比如小岛国产的抛光机的研磨盘，均为定制，从不进行批量生产，直接限制了他国仿制。



而米国的抛光设备销往华国，价格基本都在1000万元米金以上，而且出售的还都是自己早已经不用，精度在五十纳米以上的产品。



华国的芯片无法自制，没有掌握超精密抛光技也是原因之一。不过这个问题随着他的直播，早已经被解决了。